低温异质集成突破 学者面临抉择
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麻省理工华裔学者朱嘉迪：低温异质集成突破，科研环境面临考量
美国麻省理工学院化学与生物工程系博士后研究员朱嘉迪近日在接受采访时表示，其团队成功突破了在8寸晶圆上实现低温异质集成的技术难题，这项成果对半导体芯片领域具有重要意义。
朱嘉迪的团队专注于二维材料研究，此次他们实现了单层二硫化钼薄膜的低温生长和直接异质集成，这在学术界尚属前所未有。
“我们做的是一个晶圆的生长，低温生长，直接异质集成。这个是之前大家没有做过的或者没有做成功的。没有这种在8寸晶圆上面直接做低温异质集成。” 朱嘉迪说道。这项突破对芯片产业发展具有推动作用，目前一些企业已对其表达浓厚兴趣。
然而，地缘政治竞争对科研环境也带来了挑战。朱嘉迪坦言，当前科研环境存在一些限制，“比如跟美国以外的合作我们会稍微有一些顾虑，本来是很正常的学术合作我们也会有点担心未来会有问题。……为了安全起见有的时候就会停止或者不开展这样一些合作，所以这个确实是一个担忧吧。”
今年6月的一份研究报告显示，多数华裔科学家认为美国环境不安全，害怕进行研究、与中国合作以及申请联邦拨款。类似事件也曾发生在2021年，麻省理工学院微纳米工程实验室主任陈刚教授因被指控未披露与中国教育项目的联系而被捕，最终指控被撤销。
尽管如此，朱嘉迪认为麻省理工学院是一个很好的环境，“整个学校对大家都是比较平等的这种保护。”
朱嘉迪在接受采访时表示，他希望找到一个更需要他的地方，同时也能找到一个更适合自己发展的环境，“不论是中国还是美国都是存在的”。他还强调，科研选择是个人志向、未来发展平台和家庭综合考量的结果。